三洋采用涂布工藝制造薄膜硅型太陽能電池
來源：索比太陽能 日期：2010-9-13 作者：全球電池網 點擊：
三洋薄膜硅型太陽能電池
三洋電機近日，首次公開了在薄膜硅型太陽能電池的部分制造工序中采用涂布工藝的成果。由于可減少真空工藝，因此有望降低制造成本。該公司還公開了使用1.1m×1.4m底板時，穩定化前的轉換效率為10.4％的結果。
利用涂布工藝成膜的是ITO、Ag和硅，使用大日本網屏的線性涂布機（Line Coater）涂布三菱材料的納米油墨后加熱形成。非晶硅型膜和微晶硅膜與原來一樣仍采用真空工藝。
組合使用涂布工藝在1.1m×1.4m底板上形成串聯構造薄膜硅型太陽能電池時，穩定化前的轉換效率達到了10.4％。Isc（短路電流）為1.40A，Voc（開放電壓）為160.7V，FF（填充因子）為71.2％。
版權聲明：全球電池網轉載作品均注明出處，本網未注明出處和轉載的，是出于傳遞更多信息之目的，并不意味 著贊同其觀點或證實其內容的真實性。如轉載作品侵犯作者署名權，或有其他諸如版權、肖像權、知識產權等方面的傷害，并非本網故意為之，在接到相關權利人通知后將立即加以更正。
>>相關文章
評論表單加載中...正在加載評論列表...
本文共有
條評論
>>